YAG 크리스탈
1. 소개
YAG(Yttrium Aluminium Garnet, Y₃Al₅O₁₂) 결정은 높은 경도, 높은 열 전도성, 우수한 화학적 안정성 및 우수한 광학 균질성으로 잘 알려진 우수한 레이저 및 광학 소재입니다. 이는 고체 레이저, LED 인광체 기판, 광학 창, 의료용 레이저 장비 및 국방 전기{2}}광학 시스템에 널리 사용됩니다.
Hemei Company는 단단하고 부서지기 쉬운 재료의 정밀 가공에 대한 심오한 기술 전문 지식을 보유하고 있습니다. 특히 YAG 결정체를 위한 효율적이고 안정적인 연마 프로세스를 개발하여 거친 연마부터 미세한 연마까지 완벽하게 제어 가능한 처리를 가능하게 했습니다. 이를 통해 YAG 크리스탈 표면이 "레이저-등급" 또는 "광학-등급" 응용 분야에 대한 품질 표준을 충족하도록 보장합니다.
2. 지원자격
YAG 결정의 연마 목적은 다음과 같습니다.
표면 거칠기(Ra)가 < 0.5 nm로 감소되었습니다.
표면 그림 정확도(PV 값)가 λ/10(@632.8 nm)보다 우수합니다.
표면에 손상이 없고 -표면 아래 균열이 없어 레이저로 인한-손상 임계값(LIDT) 요구 사항을 충족합니다.
TTV(두께 균일성)는 지정된 마이크로미터 범위 내에서 제어됩니다.
이러한 목표를 달성하기 위해 Hemei 프로세스는 맞춤형 접착 시스템과 다단계 연마 절차를 활용하여 처리 중에 기하학적 정확성과 표면 무결성을 보장합니다.
3. 시스템 사양
Hemei의 모듈식 연마 시스템은 다양한 크기와 모양의 YAG 결정 처리를 지원합니다. 핵심 시스템에는 다음이 포함됩니다.
HSM-L/LP 시리즈 래핑 장비: 초기 소재 제거 및 두께 조절에 사용됩니다.
HSM-CMP 시리즈 화학기계연마(CMP) 시스템: 매우-부드럽고 손상이 없는-표면을 만드는 데 사용됩니다.
주요 하위 시스템:
웨이퍼/크리스탈-특정 본딩 유닛(WBU)
SJ/ASJ 시리즈 정밀 연마 지그
C-ASJ 드라이브 헤드 고속-연마 시스템
4. 처리 흐름
접착 및 장착: YAG 크리스탈은 WBU를 사용하여 지지판에 임시 접착된 후 연마 고정구에 장착됩니다.
거친 및 중간 연마: 가공 중 손상된 층을 제거하기 위해 HSM-L 장비에서 제어된 랩핑이 수행됩니다.
미세 연마: 최종 마무리에는 HSM-CMP 시스템이 사용됩니다. 압력, 회전 속도, 슬러리 흐름과 같은 매개변수를 실시간으로 조정하여-나노 수준의 표면 마감을 달성합니다.
5. 일반적인 결과
표면 거칠기: Ra < 0.5 nm
표면 수치 정확도: PV λ/10 이하
재료 제거 속도: 1-2.5μm/시간(조정 가능)
직경이 6인치 이하이고 불규칙한 모양의 결정체까지의 YAG 웨이퍼에 적용 가능합니다.
6. 요약
Hemei Company는 나노 수준의 표면 품질과 높은 광학 성능을 일관되게 달성할 수 있는 YAG 결정을 위한 완벽하고 안정적인 연마 솔루션을 제공합니다. 이는 레이저 및 광전자공학과 같은 첨단 분야에서 YAG의 산업적 적용을 지원합니다.{1}}
위 공정은 Hemei Semiconductor Lapping and Polishing Machine을 이용하여 완성됩니다.
