우리 회사는 끊임없이 새로운 것을 소개하고 있습니다 평탄도 개선을위한 랩핑 및 연마, 연마 그리스, 랩핑 파우더 더 많은 고객을 유치하기 위해. 수년에 걸쳐, 우리는 소비자에게 우수한 것을 제공 할 책임으로단점 랩핑 분말 일관된 품질로 소비자를 정복했습니다. 회사 내의 통일성과 협력은 비즈니스의 지속적인 개발을위한 중요한 보증입니다. 회사는 팀 구축에주의를 기울이고 좋은 일은 분위기를 조성합니다. "고객을위한 가치를 창출하고 사회를위한 부를 축적합니다", 우리는 업계 브랜드를 구축하기위한 강력한 사회적 책임, 전문 기술 및 비용 이점을지지하지 않습니다. 우리 직원들은 부지런하고 지구에 대한 태도를 고수하고 전문 기술을 가진 고객을위한 가치를 창출하며, 당신과 함께 일하기를 기대합니다! 우리는 협업을 통해 성공이 달성되었다고 생각하며 고객과 긴밀히 협력하여 자신의 요구를 이해하고 맞춤형 솔루션을 개발합니다. 우리는 고객 만족을 보장하기 위해 유연한 지불 조건 및 경쟁 가격을 제공합니다.
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다이아몬드 서스펜션높은 경도 : 다이아몬드는 매우 높은 경도를 가지고 있으며, 최대 10의 MOHS 경도가있어 다양한 재료를 효과적으로 갈고 절단하고 연삭 및 연마 과정에서 잘 수행 할 수 있습니다.자세히 보기
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실리콘 카바이드 분말높은 경도 : MOHS 경도는 9. 2 - 9. 5이며, 두 번째는 다이아몬드에 이어. 이렇게하면 연삭 및 절단과 같은 응용 분야에서 잘 수행되며 단단한 재료를 효과적으로 연삭하고 처리 할 수 있습니다.자세히 보기
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붕소 카바이드 분말높은 경도 : 붕소 카바이드는 다이아몬드 및 입방 붕소 질화물에 두 번째로 경도를 가지고 있으며 MOHS 경도는 9.3입니다. 이로 인해 연삭, 절단 및 기타 필드가 탁월하며 다양한 하드 재료를 효과적으로 처리 할 수 있습니다.자세히 보기
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Chemcloth 연마 천순수한 화학적 연마 패드는 특수 화학 합성 재료로 만들어지며 표면에는 풍부한 활성 화학 그룹이 포함되어 있습니다. 이들 기능 그룹은 광택 된 물질의 표면과의 특정 화학 반응을 겪을 수 있으며, 작은 돌출부와 결함을 빠르게 용해 시키거나 에칭하여 효율적인 표면 레벨링을 달성 할 수있다.자세히 보기
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일반 팽창 폴리 우레탄 연마 패드현대 산업 정밀 가공에 널리 사용되는 폴리 우레탄 연마 패드는 탁월한 성능과 다양한 특성으로 다양한 재료의 표면 연마를위한 효율적이고 신뢰할 수있는 솔루션을 제공합니다.자세히 보기
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봉제 천 연마 패드재료 표면 처리의 미세 가공 분야에서 정밀 연마 패드는 우수한 표면 품질을 달성하는 데 핵심 요소이며 반도체, 광학 및 금속 가공과 같은 산업에서 매우 높은 표면 정확도가 필요합니다.자세히 보기
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에탄-디올 연마 유체주요 성분으로서 에틸렌 글리콜은 우수한 용해도 및 화학적 안정성을 가지며, 이는 다른 첨가제에 안정적인 액체 상 환경을 제공하여 각 성분의 균일 한 분산 및 상승 효과를 보장 할 수 있습니다. 첨가 된 부식 억제제는 연마 과정에서 연마 된 물질의 부식을 효과적으로 방지하여 재료의 원래 특성을 보호 할 수 있습니다.자세히 보기
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내가 이전에 구입 한 다른 브랜드의 제품은 이것만큼 좋지 않습니다. 요컨대 구매하는 것이 좋습니다. 가격/성능 비율은 괜찮습니다.
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