우리의 사명은 좋은 경험을 가진 고객에게 창의적인 제품을 개발하는 것입니다. 웨이퍼의 랩핑 및 연마를위한 랩핑 및 연마, 초고속 랩핑 분말, 결합 왁스 포장 . 우리는 고품질로 모든 생계의 지원과 사랑을 돌려 줄 것입니다.유연한 랩핑 분말 . 우리는 우리가 함께 훌륭한 경력을 만들 수 있기를 바랍니다. 타겟팅 된 자원화를 통해 장기 성장 영역에서 혁신의 기초가되는 선택된 기술 영역에서 글로벌 리더십 위치를 취할 수 있습니다. 생산 장비, 생산 환경, 프로세스 혁신, 인적 자원 관리 측면에서 우리는 큰 단계에 도달했습니다. 우리 회사는 고객의 요구를 센터로 받아들이고 고객이 자신의 관심사를 위해 싸우도록 돕는 원칙을 준수하고 있으며, 고객의 문제를 수년간 실질적으로 해결해 왔으며, 이는 고객이 호평을 받고 있습니다. 우수성에 대한 우리의 헌신은 우리 분야에서 최고의 회사 중 하나로 명성을 얻었습니다. 당사 제품은 최종 사용자에게 최대의 기능과 내구성을 제공하도록 설계되었습니다. 우리는 완전한 고객 만족을 보장하기 위해 포괄적 인 After Sales 서비스를 제공합니다.
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실리콘 카바이드 분말높은 경도 : MOHS 경도는 9. 2 - 9. 5이며, 두 번째는 다이아몬드에 이어. 이렇게하면 연삭 및 절단과 같은 응용 분야에서 잘 수행되며 단단한 재료를 효과적으로 연삭하고 처리 할 수 있습니다.자세히 보기
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붕소 카바이드 분말높은 경도 : 붕소 카바이드는 다이아몬드 및 입방 붕소 질화물에 두 번째로 경도를 가지고 있으며 MOHS 경도는 9.3입니다. 이로 인해 연삭, 절단 및 기타 필드가 탁월하며 다양한 하드 재료를 효과적으로 처리 할 수 있습니다.자세히 보기
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다이아몬드 서스펜션높은 경도 : 다이아몬드는 매우 높은 경도를 가지고 있으며, 최대 10의 MOHS 경도가있어 다양한 재료를 효과적으로 갈고 절단하고 연삭 및 연마 과정에서 잘 수행 할 수 있습니다.자세히 보기
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봉제 천 연마 패드재료 표면 처리의 미세 가공 분야에서 정밀 연마 패드는 우수한 표면 품질을 달성하는 데 핵심 요소이며 반도체, 광학 및 금속 가공과 같은 산업에서 매우 높은 표면 정확도가 필요합니다.자세히 보기
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콜로이드 실리카 연마 유체실리콘 이산화물 연마 용액은 정밀 제조 분야의 주요 연마 매체이며, 나노 스케일 실리콘 이산화 입자가 주요 연마제 및 다양한 첨가제로서. 반도체 산업에서 특히 중요합니다.자세히 보기
오래된 파트너로서, 우리는 또한 당신과의 우정이 더 길고 길어지기를 바랍니다. 그리고 우리는 항상 당신과 협력 할 것입니다.
좋은 공급 업체를 선택하는 것은 지루하고 어려운 일입니다. 우리는 서비스와 품질에 큰 중요성을 부여하기 때문에 선택을 할 때 더욱 신중 하며이 회사에 대해 자세히 배운 후에는 자신있게 주문할 수 있습니다.
고객 - 지향, 서비스 - 지향적 인 회사의 새로운 서비스 개념입니다. 이는 회사가 구매 프로세스 전반에 걸쳐 높은 수준의 서비스를 유지한다는 것을 의미합니다.
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