YAG 크리스탈
YAG(Yttrium Aluminium Garnet, Y₃Al₅O₁₂) 결정은 높은 경도, 높은 열 전도성, 우수한 화학적 안정성 및 뛰어난 광학 균질성으로 잘 알려진 고성능 레이저 및 광학 소재입니다. 이는 고체-상태 레이저, LED 인광체 기판, 광학 창, 의료용 레이저 장비 및 방위용 전기{3}}광학 시스템에 널리 사용됩니다.
Hemei Company는 단단하고 부서지기 쉬운 재료의 정밀 가공에 대한 심오한 기술 전문 지식을 보유하고 있습니다. YAG 결정의 경우 Hemei는 거친 연마에서 미세한 연마까지 완벽하게 제어 가능한 처리를 가능하게 하는 효율적이고 안정적인 연마 공정을 개발하여 YAG 결정 표면이 "레이저{1}}등급" 또는 "광학{2}}등급" 품질 표준을 충족하도록 보장합니다.
지원 요건
YAG 결정의 연마 목적은 다음과 같습니다.
표면 거칠기(Ra)를 로 감소< 0.5 nm.
λ/10(@632.8 nm)보다 우수한 표면 형상 정확도(PV 값)를 달성합니다.
표면 아래 균열이 없는-손상 없는 표면을 보장하고 레이저로 인한-손상 임계값 요구 사항을 충족합니다.
특정 마이크로미터 범위 내에서 두께 균일성(TTV)을 제어합니다.
이러한 목표를 달성하기 위해 Hemei의 프로세스에서는 맞춤형 접착 시스템과 다단계 연마 절차를 사용하여 처리 중 기하학적 정확성과 표면 무결성을 보장합니다.
시스템 사양
Hemei의 모듈식 연마 시스템은 다양한 크기와 모양의 YAG 결정 처리를 지원합니다. 핵심 시스템에는 다음이 포함됩니다.
HSM-L/LP 시리즈 래핑 장비: 초기 재료 제거 및 두께 제어용.
HSM-CMP 시리즈 화학기계연마(CMP) 시스템: 매우-매끄럽고 손상이 없는-표면을 얻기 위한 것입니다.
주요 하위 시스템은 다음과 같습니다.
웨이퍼/크리스탈-특정 본딩 유닛(WB)
SJ/ASJ 시리즈 정밀 연마 지그
C-ASJ 드라이브 헤드 고속-연마 시스템
처리 흐름
접착 및 장착: YAG 크리스탈은 WB 장치를 사용하여 지지판에 일시적으로 접착된 다음 연마 장치에 장착됩니다.
황삭 및 중간 연마: HSM-L 장비에서 제어된 랩핑을 수행하여 가공 손상층을 제거합니다.
정밀 연마: HSM-CMP 시스템이 최종 연마를 수행합니다. 압력, 회전 속도, 슬러리 흐름과 같은 매개변수가 실시간으로 조정되어-나노미터-수준의 표면 매끄러움을 달성합니다.
전형적인 결과
표면 거칠기 Ra < 0.5 nm.
표면 그림 정확도 PV λ/10보다 작거나 같습니다.
1~2.5μm/min의 제어 가능한 재료 제거 속도.
직경이 6인치 이하이고 모양이 결정된 YAG 웨이퍼에 적합합니다.
Hemei Company는 나노미터{0}}수준의 표면 품질과 높은 광학 성능을 일관되게 제공할 수 있는 YAG 결정을 위한 완벽하고 안정적인 연마 솔루션을 제공합니다. 이는 레이저 및 광전자 공학과 같은 고급 분야에서 YAG 결정의 산업적 응용을 지원합니다.{2}}
