우리 회사는 모든 건강한 형식의 조정 된 개발을 주장하고 건강을위한 무한한 가능성을 만듭니다. 워크숍 본딩 왁스, 패드 본딩 왁스 작성, 중합체 재료 지원 표면의 랩핑 및 연마를위한 랩핑 및 연마 생산. 우리는 항상 우리의 것을 희망합니다실리콘 카바이드 연마 유체 더 많은 사람들에게 편리함을 제공하고 더 많은 장소로 퍼질 수 있습니다. 우리는 지속적인 혁신을 통해 제품을 더 간단하게 만들 것입니다. 신뢰할 수있는 제품, 사려 깊은 서비스 및 첨단 기술은 우리의 삶을 개선 할 것입니다. 우리는 함께 고객과 주주들에게 가치를 성공적으로 제공하고 직원들에게 기회를 제공하며 강력한 힘을 얻을 수 있음을 보여주었습니다. 우리 회사에는 완벽한 제품, 성숙한 기술 및 훌륭한 사전 판매 및 애프터 서비스가 있습니다. 이 회사는 제품의 시장 촉진 및 개발에 주목하면서 기업을 지속적으로 강화하고, 관리 및 생산을 개선하며, 신제품의 연구 및 개발을 늘리고, 우수한 출력으로 제품을 통해 고객의 인정을 받았습니다. 우리 회사는 혁신과 새로운 기술에 대한 혁신과 투자를 위해 업계에서 앞서 나가기 위해 노력하고 있습니다. 우리는 신뢰, 투명성 및 상호 존중을 기반으로 고객과의 장기 파트너십을 구축하는 것을 믿습니다. 우리는 다양한 고객 요구를 충족시키는 포괄적 인 솔루션을 제공합니다.
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![오일 기반 서스펜션 유체]()
오일 기반 서스펜션 유체오일 기반 현탁액은 오일 물질의 연속상에서 다양한 고체 입자를 균일하게 분산시킴으로써 형성된 안정적인 시스템이다. 그것은 많은 산업 분야, 특히 재료 처리에서 매우 높은 정밀도와 표면 품질이 필요한 반도체 산업에서 중요한 역할을합니다.자세히 보기 -
![실리콘 카바이드 분말]()
실리콘 카바이드 분말높은 경도 : MOHS 경도는 9. 2 - 9. 5이며, 두 번째는 다이아몬드에 이어. 이렇게하면 연삭 및 절단과 같은 응용 분야에서 잘 수행되며 단단한 재료를 효과적으로 연삭하고 처리 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![붕소 카바이드 분말]()
붕소 카바이드 분말높은 경도 : 붕소 카바이드는 다이아몬드 및 입방 붕소 질화물에 두 번째로 경도를 가지고 있으며 MOHS 경도는 9.3입니다. 이로 인해 연삭, 절단 및 기타 필드가 탁월하며 다양한 하드 재료를 효과적으로 처리 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![다이아몬드 서스펜션]()
다이아몬드 서스펜션높은 경도 : 다이아몬드는 매우 높은 경도를 가지고 있으며, 최대 10의 MOHS 경도가있어 다양한 재료를 효과적으로 갈고 절단하고 연삭 및 연마 과정에서 잘 수행 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![높은 융점 박막 결합 왁스]()
높은 융점 박막 결합 왁스고온 박막 접착제 왁스는 광학 유리, 사파이어, 결정, 실리콘 웨이퍼, 게르마늄 웨이퍼, 실리콘 카바이드, 리튬 니오 베이트, 리튬 탄탈 레이트, 금속, 피에 자극 세라믹 등의 결합 공정에 적합합니다. 연마 과정.자세히 보기 -
![석영 왁스]()
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![왁스 액체]()
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![Chemcloth 연마 천]()
Chemcloth 연마 천순수한 화학적 연마 패드는 특수 화학 합성 재료로 만들어지며 표면에는 풍부한 활성 화학 그룹이 포함되어 있습니다. 이들 기능 그룹은 광택 된 물질의 표면과의 특정 화학 반응을 겪을 수 있으며, 작은 돌출부와 결함을 빠르게 용해 시키거나 에칭하여 효율적인 표면 레벨링을 달성 할 수있다.자세히 보기 -
![봉제 천 연마 패드]()
봉제 천 연마 패드재료 표면 처리의 미세 가공 분야에서 정밀 연마 패드는 우수한 표면 품질을 달성하는 데 핵심 요소이며 반도체, 광학 및 금속 가공과 같은 산업에서 매우 높은 표면 정확도가 필요합니다.자세히 보기 -
![에탄-디올 연마 유체]()
에탄-디올 연마 유체주요 성분으로서 에틸렌 글리콜은 우수한 용해도 및 화학적 안정성을 가지며, 이는 다른 첨가제에 안정적인 액체 상 환경을 제공하여 각 성분의 균일 한 분산 및 상승 효과를 보장 할 수 있습니다. 첨가 된 부식 억제제는 연마 과정에서 연마 된 물질의 부식을 효과적으로 방지하여 재료의 원래 특성을 보호 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![콜로이드 실리카 연마 유체]()
콜로이드 실리카 연마 유체실리콘 이산화물 연마 용액은 정밀 제조 분야의 주요 연마 매체이며, 나노 스케일 실리콘 이산화 입자가 주요 연마제 및 다양한 첨가제로서. 반도체 산업에서 특히 중요합니다.자세히 보기 -
![화학 연마 유체]()
코트니 뺨
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레너드 레스터
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