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![산화 알루미늄 분말]()
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![실리콘 카바이드 분말]()
실리콘 카바이드 분말높은 경도 : MOHS 경도는 9. 2 - 9. 5이며, 두 번째는 다이아몬드에 이어. 이렇게하면 연삭 및 절단과 같은 응용 분야에서 잘 수행되며 단단한 재료를 효과적으로 연삭하고 처리 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![세륨 산화물 분말]()
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![붕소 카바이드 분말]()
붕소 카바이드 분말높은 경도 : 붕소 카바이드는 다이아몬드 및 입방 붕소 질화물에 두 번째로 경도를 가지고 있으며 MOHS 경도는 9.3입니다. 이로 인해 연삭, 절단 및 기타 필드가 탁월하며 다양한 하드 재료를 효과적으로 처리 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![다이아몬드 서스펜션]()
다이아몬드 서스펜션높은 경도 : 다이아몬드는 매우 높은 경도를 가지고 있으며, 최대 10의 MOHS 경도가있어 다양한 재료를 효과적으로 갈고 절단하고 연삭 및 연마 과정에서 잘 수행 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![박막 결합 왁스]()
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![석영 왁스]()
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![왁스 액체]()
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![감지 된 유리 기판]()
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![일반 팽창 폴리 우레탄 연마 패드]()
일반 팽창 폴리 우레탄 연마 패드현대 산업 정밀 가공에 널리 사용되는 폴리 우레탄 연마 패드는 탁월한 성능과 다양한 특성으로 다양한 재료의 표면 연마를위한 효율적이고 신뢰할 수있는 솔루션을 제공합니다.자세히 보기 -
![에탄-디올 연마 유체]()
에탄-디올 연마 유체주요 성분으로서 에틸렌 글리콜은 우수한 용해도 및 화학적 안정성을 가지며, 이는 다른 첨가제에 안정적인 액체 상 환경을 제공하여 각 성분의 균일 한 분산 및 상승 효과를 보장 할 수 있습니다. 첨가 된 부식 억제제는 연마 과정에서 연마 된 물질의 부식을 효과적으로 방지하여 재료의 원래 특성을 보호 할 수 있습니다.자세히 보기 -
![콜로이드 실리카 연마 유체]()
콜로이드 실리카 연마 유체실리콘 이산화물 연마 용액은 정밀 제조 분야의 주요 연마 매체이며, 나노 스케일 실리콘 이산화 입자가 주요 연마제 및 다양한 첨가제로서. 반도체 산업에서 특히 중요합니다.자세히 보기
조엘 곤잘레스
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